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PVD皮膜形成プロセス

PVD皮膜が形成される過程

イオンプレーティング法はアーク放電式、電子ビーム式、ホロカソード式等が存在しますが、
その中でも代表とされるアーク放電式による処理方法をご紹介します。

アーク放電式イオンプレーティング装置

アーク放電式の装置では処理物を回転テーブルに設置し、そのテーブルを回転させながら、装置内部側面の金属ターゲットを蒸発させ、それを反応ガスと共に処理物表面に堆積させることで皮膜を形成させていきます。

皮膜形成プロセス

皮膜形成過程をモデル図でご紹介します。(例:TiCN皮膜の場合)

アーク放電式イオンプレーティング装置

装置内を真空状態にした後、処理物を加熱する。
処理物に-(負)の電圧をかける。

反応ガスとなる窒素や炭化水素ガスを導入する。
装置内の金属ターゲット( Ti )をアーク放電によって蒸発させることで金属イオンが発生する。

+(正)に帯電した金属及びガスが、-(負)に帯電している処理物に引き寄せられ処理物から
電子( e- )を受け取ることで皮膜が形成される。