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新Snめっきプロセス

低炭素光沢めっき(メタスSNV-300プロセス)

特徴

  1. 1)リフロー時のヨリ、がま肌が発生しません。
  2. 2) リフロー時の変色を抑えます。
  3. 3) はんだ濡れ性が良好です。
  4. 4) 光沢皮膜の為、耐削れ性が良好です。

炭素含有量比較

従来浴と比較し、炭素含有量が極めて少ない。

半導体向けSnめっき(メタスFSMシリーズ)

特徴

  1. 1) 半導体市場に採用されているめっき薬品です。
  2. 2) 幅広い電流密度で均一な結晶が得られます。

異なった電流密度下で行った結晶生成の様子

5ASD10ASD30ASD

5~30ASDの電流密度で処理した場合の結晶の拡大写真です。どの電流密度でも均一な結晶が生成されていることが確認できます。


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