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电子元器件用药品

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抑制晶须电镀工艺

YWL系统

在YWL系统中,可以控制晶须的产生。

通常电镀系统和YWL系统的薄膜组织剖视图比较

通常电镀系统YWL系统YWL系统横剖面照片

※YWL系统通过缓解应力、防止划痕来抑制晶须。

YWL系统的应力缓解效果

YWL系统与单层电镀的比较

YWL系统的抑制晶须效果

在无光亮达80%的情况下,晶须最小。


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